フォトマスクの製造

このページの目次
  1. この工程の要点
  2. 解説
  3. この工程の企業
  4. 関係する用語
  5. 前後の工程

この工程の要点

設計データをもとに、露光で使う回路パターンの原版を作る工程。

段階:設計

解説

この工程の解説は、準備中です。

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この工程の企業

1社を表示しています

フォトマスクの製造の企業の一覧
企業名企業区分売上高(億円)半導体関連の比率(%)営業利益率(%)平均年間給与(万円)
レーザーテック国内上場企業2,304.9100.045.71,881

定義と範囲

営業利益率は、全社の連結の数値です。半導体事業だけの数値ではありません。

平均年間給与は、提出会社の従業員の数値です。持株会社では、事業会社の水準を表しません。

会計基準の違いで、営業利益の定義が異なる場合があります。

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関係する用語

この工程に関係する用語は、まだありません。

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