スラリー

公開日：2026年10月9日

読み：スラリー　英語：slurry

固体の微粒子を液体に分散させた懸濁液。半導体製造では、CMPで研磨に用いる研磨剤の液を指すことが多い。

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スラリーとは、固体の微粒子を液体中に分散させた懸濁液のことである。半導体製造では、主にCMP（化学機械研磨）で使う研磨用の液を指す。

研磨用のスラリーには、研磨粒子と、薬液の成分が含まれる。粒子による機械的な作用と、薬液による化学的な作用を組み合わせて、ウェーハ表面の膜を削る。

CMPは、成膜などの後に、表面を平らにするために行う。スラリーは、研磨パッドとウェーハの間に供給される。削る膜の種類に応じて、粒子や薬液の組成を使い分ける。研磨後は、残った粒子を除くために洗浄を行う。