シリコンウェーハ

公開日:

読み:シリコンウェーハ 英語:silicon wafer 別の表記:シリコンウエハ、シリコンウエハー

高純度のシリコン単結晶を薄い円板状に切り出し、表面を鏡のように磨いた基板。半導体チップの回路を作り込む土台となる。

このページの目次
  1. 関係する工程と企業
  2. 出典

シリコンウェーハは、高純度のシリコンの単結晶を薄い円板状に切り出し、表面を鏡のように磨いた基板である。半導体チップの回路は、この基板の表面に作り込まれる。

製造では、単結晶インゴットをスライスし、研削、研磨、洗浄を経て、平坦で清浄な表面に仕上げる。

この基板に、成膜、リソグラフィ、エッチング、CMP(化学機械研磨)などの工程を繰り返して回路を形成する。回路を作り終えたウェーハは、ダイシングでチップに分割され、パッケージングされる。

工程:シリコンウェーハの製造工程:洗浄工程:成膜(CVD、PVD、ALD)工程:リソグラフィ(塗布・露光・現像)工程:エッチング工程:CMP(平坦化)工程:ダイシング工程:パッケージング(封止)

関係する用語:バックグラインド、CMP、単結晶インゴット

出典