熱酸化

公開日：2026年10月17日作成者：hysd（SemiCompass運営者）

ひとことで言うと

高温の酸素や水蒸気の中でシリコンを加熱し、表面に酸化シリコンの膜を作る方法である。

このページの目次

熱酸化は、高温の酸素や水蒸気の中でシリコンウェーハを加熱し、表面に酸化シリコンの膜を作る方法である。酸化シリコンは電気を通しにくく、絶縁膜として使われる。

CVDのように外から膜の材料を積み重ねるのではなく、ウェーハのシリコン自体が酸素と反応して膜になる。膜はシリコンの表面と密着し、欠陥が少ない良質な膜になる。トランジスタのゲートの絶縁や、素子どうしを分ける領域などに使われる。

酸素を使う方法をドライ酸化、水蒸気を使う方法をウェット酸化という。ドライ酸化は膜質が緻密で、ウェット酸化は膜が速く成長する。

理解度チェック

本文の内容から答えられる問いです。答えを選ぶと、正しいかどうかと解説が出ます。

問1

熱酸化で酸化シリコンの膜ができる仕組みとして、正しいものはどれか。

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答え：2. ウェーハのシリコンが酸素と反応して膜になる

熱酸化では、外から材料を積むのではなく、ウェーハのシリコン自体が酸素と反応して酸化シリコンの膜になる。