ニコン、解像度0.5μmの後工程向けデジタル露光装置を開発へ

公開日:分類:技術作成者:hysd(SemiCompass運営者)

このページの目次
  1. 何が起きたか
  2. なぜ重要か
  3. 関係する企業・工程とサプライチェーン上の位置
  4. 関係する企業・工程
  5. 出典

何が起きたか

ニコンは、後工程向けのデジタル露光装置の開発がNEDO(新エネルギー・産業技術総合開発機構)の補助事業に採択されたと、2026年10月に発表した[1]。同社が提案したのは、高精細なアドバンストパッケージ用のデジタル露光装置である[1]。開発の目標は、解像度0.5μm(ライン/スペース)、重ね合わせ精度±0.15μm以下、従来装置に比べて50%の省エネである[1]。

なぜ重要か

背景には、半導体の後工程で技術革新が進んでいることがある[1]。パネルレベルパッケージングでは、大型基板に高精細で高密度なRDL(再配線層)を作るため、それに対応する露光装置が必要になる[1]。0.5μmは、同社の現行機DSP-100の1.0μmの半分の細かさである[1]。重ね合わせ精度は、すでに形成した層に位置を合わせて重ねる精度であり、露光装置に求められる性能の一つである。省エネは従来装置との比較で、半減を目指す数値である[1]。いずれも開発の目標であり、実機で達成した数値ではない[1]。

関係する企業・工程とサプライチェーン上の位置

ニコンは露光装置を手がけ、今回は半導体の後工程向けの装置を開発する[1]。露光はリソグラフィ工程の一部であり、この装置は先端パッケージで再配線層を形成する段階に関わる。チップを作る前工程ではなく、チップをパッケージにまとめる段階の微細化に関わる装置である[1]。

企業:ニコン工程:リソグラフィ(塗布・露光・現像)工程:先端パッケージ

出典

  1. ニコン、0.5μm解像度のデジタル露光装置を開発へ:重ね合わせ精度±0.15μm以下、50%省エネ目指す(外部サイト)EE Times Japan公表日: