東京応化工業、郡山工場にフォトレジスト新製造棟が完成

公開日:分類:投資

元記事:「世界最大級」フォトレジスト製造棟が完成 東京応化工業:郡山工場で2026年11月から稼働(外部サイト)(EE Times Japan、)

このページの目次
  1. 何が起きたか
  2. なぜ重要か
  3. 関係する企業・工程とサプライチェーン上の位置
  4. 関係する企業・工程
  5. 出典

何が起きたか

東京応化工業は2026年10月、福島県郡山市の郡山工場で、半導体向けの感光材料であるフォトレジストを造る新しい製造棟が完成したと発表した[1]。稼働は2026年11月の予定である[1]。着工は2024年7月、竣工は2026年10月である[1]。建築面積は4,800平方メートル、投資額は約230億円である[1]。同社はこの棟を、フォトレジストの製造棟として世界最大級だとしている[1]。

なぜ重要か

フォトレジストは、光を当てると現像液への溶けやすさが変わる感光性の材料である。ウェーハ上に薄く塗り、フォトマスクを通して露光し、現像すると、回路の形をしたレジストのパターンが残る。残ったパターンは、エッチングなどの加工で下の層を守る型になる。回路を写し取る工程で使う材料である。

郡山工場が造るのは、EUV(極端紫外線)露光装置用やArF用などのレジストである[1]。EUV露光は、波長の短い光で細かい回路を描くための方式である。同社は、半導体市場が今後も成長する見込みだとして、品質の向上、供給能力の拡大、生産効率の改善を目的に新棟の建設を決めた[1]。

関係する企業・工程とサプライチェーン上の位置

東京応化工業は、半導体用フォトレジストを作る材料メーカーである[1]。フォトレジストは、リソグラフィ(塗布・露光・現像)の工程で使う材料にあたる。今回の新製造棟は、露光装置やフォトマスクと組み合わせて使う材料を、チップの製造側へ供給する段階の設備である。

企業:東京応化工業工程:リソグラフィ(塗布・露光・現像)

出典

  1. 「世界最大級」フォトレジスト製造棟が完成 東京応化工業:郡山工場で2026年11月から稼働(外部サイト)EE Times Japan公表日: