アッシング

公開日：2026年10月18日作成者：hysd（SemiCompass運営者）

ひとことで言うと

プラズマ中の酸素などで、不要になったフォトレジストを燃やすように取り除く処理である。

このページの目次

アッシングは、プラズマ中の酸素などを使って、不要になったフォトレジストを灰にするように取り除く処理である。灰化ともいう。

フォトレジストは、エッチングやイオン注入のときに、膜を守るマスクとして働く。役目を終えたら、ウェーハから取り除く必要がある。有機物であるフォトレジストは、酸素のプラズマに触れると反応し、気体になって除かれる。

アッシングで取り切れなかった残りかすは、薬液による洗浄で除く。レジストを薬液で溶かして除く方法もあるが、ドライエッチングと同じ装置で続けて処理できる点がアッシングの利点である。

理解度チェック

本文の内容から答えられる問いです。答えを選ぶと、正しいかどうかと解説が出ます。

問1

アッシングで取り除く対象は、次のうちどれか。

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答え：1. 不要になったフォトレジスト

アッシングは、役目を終えたフォトレジストを、酸素のプラズマで反応させて気体にし、取り除く処理である。