フォトレジスト

公開日：2026年10月9日

読み：フォトレジスト　英語：photoresist　別の表記：レジスト

光や電子線を当てると現像液への溶けやすさが変わる感光性の材料。ウェーハ上に回路パターンを写し取るために塗る。

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フォトレジストは、光などを当てると性質が変わる感光性の材料である。ウェーハ上に薄く塗り、回路パターンを写し取るために使う。

リソグラフィでは、まずレジストをウェーハ表面に塗布する。次にフォトマスクを通して露光装置で光を当て、その後に現像液で処理する。すると一部が溶けて除去され、レジストのパターンが残る。

光が当たった部分が溶けるものをポジ型、光が当たった部分が残るものをネガ型と呼ぶ。残ったレジストは、エッチングなどの際に下の層を守るマスクとして働く。役目を終えたレジストは、その後に除去される。