露光装置

公開日：2026年10月9日

読み：ロコウソウチ

フォトマスクの回路パターンを、光でウェーハ上のフォトレジストに転写する装置。

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露光装置は、回路パターンをシリコンウェーハ上に転写する装置である。フォトマスクに光を当て、その像をウェーハ表面のフォトレジストに結像させて感光させる。

リソグラフィ工程では、コータ・デベロッパでレジストを塗布した後に露光を行い、そのあとで現像してレジストのパターンを得る。このパターンは、続くエッチングなどの加工の型になる。

光源の波長が短いほど、細いパターンを描きやすい。EUV（極端紫外線）を使うEUV露光も、露光装置の一種である。すでに形成した層に位置を合わせて重ねる精度も、装置に求められる性能である。