フォトマスク

公開日：2026年10月9日

読み：フォトマスク　英語：photomask　別の表記：マスク

半導体の回路パターンを描いた原版で、露光時に光を通してウェーハ上のレジストへパターンを転写するために使う。

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フォトマスクは、半導体の回路パターンを描いた原版である。

光を通す方式のフォトマスクは、透明な基板の上に、光を遮る膜でパターンを描いたものである。

リソグラフィ工程では、露光装置から出た光がフォトマスクを通り、ウェーハ上のフォトレジストにパターンを転写する。現像を経て、レジストにパターンが残る。

このレジストパターンを基に、エッチングなどの加工が行われる。マスクの製作には、回路設計で作られた設計データが使われる。

回路は層ごとに形が異なるため、層ごとに別のマスクを用い、重ねて作り込む。