Low-k膜

公開日：2026年10月17日作成者：hysd（SemiCompass運営者）

ひとことで言うと

比誘電率が低い絶縁膜で、配線どうしの間に使い、信号の遅れを小さくする。

このページの目次

Low-k膜は、比誘電率が低い絶縁膜である。kは比誘電率を表す記号で、電気を蓄えやすいほど大きい。配線の間の絶縁膜に使う。

配線どうしが近づくと、間の絶縁膜に電気がたまり（寄生容量）、信号が伝わるのが遅れ、消費電力も増える。比誘電率の低い絶縁膜を使うと、この影響を小さくできる。

膜の内部に細かい空孔を作って、比誘電率を下げる方法もある。一方で、空孔のある膜は機械的に弱く、研磨や実装のときに傷みやすい。配線の微細化が進むほど、Low-k膜の性質の制御が難しくなる。

理解度チェック

本文の内容から答えられる問いです。答えを選ぶと、正しいかどうかと解説が出ます。

問1

Low-k膜を配線の間の絶縁膜に使う目的として、正しいものはどれか。

答えと解説を見る

答え：1. 寄生容量を小さくして、信号の遅れと消費電力を抑えるため

比誘電率の低い絶縁膜を配線の間に使うと、電気がたまる寄生容量が小さくなり、信号の遅れと消費電力を抑えられる。